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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种纳米光学加速度计及其制备方法
    一种纳米光学加速度计及其制备方法_中国人民解放军国防科技大学_202510860741.5
    本发明属于加速度计领域，具体涉及一种纳米光学加速度计及其制备方法，包括在硅片的两面沉积氮化硅薄膜，在一面的氮化硅薄膜采用光刻工艺在顶部氮化硅薄膜上形成目标图形，采用刻蚀法在目标图形处刻蚀氮化硅薄膜形成目标图形的孔，然后采用刻蚀法刻蚀硅片，释...
    2026-04-29
  • 一种快速换版机构及箱式晒版机
    一种快速换版机构及箱式晒版机_宜宾美彩包装材料有限公司_202521235392.X
    实用新型属于晒版机领域，尤其是一种快速换版机构及箱式晒版机，针对现有晒版机在使用后，感光版可能会因负压吸附在机器上，不便对其进行换版，并且晒版机上的滤网容易沾染的杂质，不便对其进行清理的问题，现提出如下方案，其包括机器本体，所述机器本体的两...
    2026-04-29
  • 曝光装置
    曝光装置_纳米系统解决方案株式会社_202180020118.9
    提供一种能够在确保吞吐量的同时提高曝光精度的曝光装置。曝光装置(100)具备：反射型液晶调制装置(21、22)；光源装置(10)，用均匀化后的紫外线波长区域的脉冲状的激光光同样地照明反射型液晶调制装置(21、22)；投影光学系统(30)，使...
    2026-04-29
  • 一种电子束光刻方法和半导体器件
    一种电子束光刻方法和半导体器件_中国科学院微电子研究所_202310181916.0
    本发明涉及一种电子束光刻方法和半导体器件，属于半导体器件制备技术领域，解决了现有技术中利用辅助图形修正邻近效应时会占用额外的版图面积，不利于器件高密度集成的问题。所述方法包括如下步骤：步骤A：在衬底上形成光刻胶层；步骤B：通过曝光和显影在光...
    2026-04-29
  • 光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
    光致抗蚀剂组合物及图案形成方法_罗门哈斯电子材料有限责任公司_202211196400.5
    一种光致抗蚀剂组合物，其包含聚合物、光酸产生剂、包含作为内酯环的成环原子的叔碳原子的添加剂和溶剂。
    2026-04-29
  • 一种高清投影灯
    一种高清投影灯_广东时光生活科技有限公司_202411506395.2
    本发明公开了一种高清投影灯, 包括：灯座包括收容腔与所述收容腔连通设置的投影口；投影构件包括至少一灯体、位于所述灯体上方的至少一投影轮盘以及投影镜头，所述投影镜头向上显露于所述投影口，所述投影轮盘包括至少一投影片，所述投影镜头包括多个镜片，...
    2026-04-29
  • 高度测量系统
    高度测量系统_ASML荷兰有限公司_202480062135.2
    一种用于测量衬底的抗蚀剂覆盖表面的高度的系统，所述系统包括：投影单元，包括被配置为发射具有第一波长的辐射和具有第二波长的辐射的至少一个辐射源，投影单元被配置为将具有第一波长辐射和具有第二波长的辐射引导到衬底的抗蚀剂覆盖表面上，与第二波长相比...
    2026-04-29
  • 新能源动力系统
    新能源动力系统_郑仁良_202610146642.5
    本发明公开了一种新能源动力系统，包括：温差驱动模块，由形状记忆合金元件构成，钟表传动模块，机械连接至所述温差驱动模块；环境适配模块，集成于所述温差驱动模块和/或钟表传动模块；能量转换模块，连接至所述钟表传动模块的输出端，本发明涉及新能源发电...
    2026-04-29
  • 光源装置、曝光装置和物品的制造方法
    光源装置、曝光装置和物品的制造方法_佳能株式会社_202511500227.7
    本发明涉及光源装置、曝光装置和物品的制造方法。一种光源装置，在将原版的图案的像投影到基板的曝光装置中使用，其中，所述光源装置具有射出第1波长的光的第1LED组、射出与所述第1波长不同的第2波长的光的第2LED组以及对来自所述第1LED组的光...
    2026-04-29
  • 一种波长特异性调控器件及其制备方法和使用该器件的激光直写光刻系统
    一种波长特异性调控器件及其制备方法和使用该器件的激光直写光刻系统_杭州玉之泉精密仪器有限公司_202610053509.5
    本发明公开了一种用于激光直写光刻的波长特异性调控器件，包括微调制结构和光纤，微调制结构为矩形方块，在光纤端面位置为遮挡住纤芯的一半区域，微调制结构厚度满足产生的光程差，在激发光波长处产生2π相位差，在抑制光波长处产生π相位差。其制备方法为将...
    2026-04-29
  • 相机致动器
    相机致动器_LG伊诺特有限公司_202180071833.5
    根据实施例的相机致动器包括：壳体；棱镜单元，设置在壳体中；以及驱动单元，设置在壳体中并使棱镜单元倾斜。驱动单元包括：第一压电装置，设置在相对于棱镜部的中心在第一方向上重叠的区域中；以及第二压电装置，设置在相对于棱镜部的中心在与第一方向不同的...
    2026-04-29
  • 一种滑道式重力储能系统
    一种滑道式重力储能系统_济南吉发智能科技有限公司_202520051394.7
    本实用新型提供了一种滑道式重力储能系统，涉及储能技术领域，其包括深槽、重物以及能够带动重物运动的提升机构，所述深槽在地面以下沿水平方向延伸，重物在深槽内沿着深槽延伸的方向排列有多个；所述提升机构包括平行设置且位于地面上方的两个滑轨梁以及位于...
    2026-04-29
  • 一种新型脚踏式杠杆机
    一种新型脚踏式杠杆机_严仁福_202521125323.3
    本实用新型提供了一种新型脚踏式杠杆机，属于杠杆装置技术领域，所述杠杆包括主动杆及从动杆，所述主动杆与所述从动杆之间通过单向转动组件连接，所述单向转动组件包括转动件及限位板，所述主动杆与所述从动杆之间通过所述转动件可转动连接，所述限位板设置在...
    2026-04-29
  • 基于实验法求解邻近效应修正中的最佳Eta的方法及系统
    基于实验法求解邻近效应修正中的最佳Eta的方法及系统_上海哥瑞利软件股份有限公司_202610124997.4
    本发明提供一种基于实验法求解邻近效应修正中的最佳Eta的方法及系统，该方法包括：步骤1，设计测试版图，每个区域包含多组实验条件组合：m组不同曝光剂量BaseDose、n组不同Eta、k种不同密度结构类型；步骤2，设置多组实验条件，采集关键尺...
    2026-04-29
  • 应用于曝光机的承载平台
    应用于曝光机的承载平台_乐金显示光电科技(中国)有限公司_202520874361.2
    本实用新型涉及一种应用于曝光机的承载平台，包括底座、吸盘和多个支撑组件。底座沿第一方向依次分布有多个喷气区，每个喷气区内设置有喷气孔。底座沿第一方向的两端均设置有吸盘，吸盘背离底座的一侧面形成吸附面。多个支撑组件沿第一方向间隔设置于底座上，...
    2026-04-29
  • 一种高增益宽摆幅的浮动反相放大器电路
    一种高增益宽摆幅的浮动反相放大器电路_西北工业大学_202511864188.9
    本申请属于放大器技术领域。本申请提供一种高增益宽摆幅的浮动反相放大器电路。本公开实施例将多层套筒式FIA的第一级放大器与作为输出级的第二级放大器(常规FIA)级联，通过第一反馈网络和第二反馈网络连接输出级的输入和输出端，接成闭环负反馈的形式...
    2026-04-29
  • 一种激光光绘机
    一种激光光绘机_江西邦合美科技有限公司_202521048343.5
    本实用新型提供一种激光光绘机，包括装置本体，所述装置本体内部顶端安装有电动滑轨，所述电动滑轨内部滑动连接有滑动组件，通过设置驱动板、滑槽、限位块、调节机构和转轴的配合使用，便于对放置板上固定的光绘板角度进行调节，使得在操作时，工作人员先把光...
    2026-04-29
  • 一种相机靴座的锁紧结构
    一种相机靴座的锁紧结构_夸父科技(深圳)有限公司_202521314370.2
    本实用新型涉及摄影器材技术领域，具体涉及一种相机靴座的锁紧结构。包括靴座，所述靴座上设置有金属弹片，所述靴座与所述金属弹片之间设置有固定螺丝，所述靴座上所述金属弹片两侧对称开设有固定孔。通过在靴座上安装金属弹片，使摄影附件在安装到相机靴座时...
    2026-04-29
  • 一种晶圆喷印涂胶装置及工艺方法
    一种晶圆喷印涂胶装置及工艺方法_东北大学_202211343087.3
    本发明提供一种晶圆喷印涂胶装置及工艺方法。所述装置包括上位机、总控制器、运动控制系统、稳定供墨系统、吸附与加热装置、喷印控制系统；上位机和总控制器使用以太网接口进行通讯，总控制器连接运动控制系统、稳定供墨系统、吸附与加热装置、喷印控制系统四...
    2026-04-29
  • 基于传感器的板材厚度自适应调节系统
    基于传感器的板材厚度自适应调节系统_广东豪德数控装备股份有限公司_202610018764.6
    本发明公开基于传感器的板材厚度自适应调节系统，包括多源传感融合采集模块、动态参数调节计算模块和闭环反馈执行模块。多源传感融合采集模块含激光位移传感器、振动传感器、温度传感器和刀具磨损传感器，分别采集板材厚度原始信号、加工环境振动信号、加工区...
    2026-04-29
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