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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 带电粒子束描绘装置
    带电粒子束描绘装置_纽富来科技股份有限公司_202210380939.X
    本发明提供能够同时解决二次电子的空间滞留与偏转器电极带电引起的射束位置的变动的带电粒子束描绘装置。本实施方式的带电粒子束描绘装置具备：调整照射到描绘对象的基板的带电粒子束的照射位置的定位偏转器；固定偏转器，配置于比所述定位偏转器靠所述带电粒...
    2026-04-29
  • 三五族半导体化合物用光刻胶清洗剂、其制备方法及用途
    三五族半导体化合物用光刻胶清洗剂、其制备方法及用途_浙江奥首材料科技有限公司_202512056757.3
    本发明涉及三五族半导体化合物用光刻胶清洗剂、其制备方法及用途，其中三五族半导体化合物用光刻胶清洗剂，按照重量份计算包括如下组分：缓蚀剂0.5‑2份；有机碱1‑20份；润湿剂10‑20份；有机溶剂70‑90份；超纯水1‑5份。本发明采用的缓蚀...
    2026-04-29
  • 光源装置及投影设备
    光源装置及投影设备_深圳光峰科技股份有限公司_202520875983.7
    本申请公开了一种光源装置及投影设备，该光源装置包括激光模块、荧光模块以及匀光件，激光模块用于产生指定激光；荧光模块用于产生指定荧光；匀光件设置在指定激光和指定荧光所在的光路上；匀光件设有入光面，指定激光入射至入光面以形成激光光斑，指定荧光入...
    2026-04-29
  • 量测标记、半导体结构、量测方法、设备以及存储介质
    量测标记、半导体结构、量测方法、设备以及存储介质_长鑫存储技术有限公司_202110799563.1
    本公开是关于一种量测标记、半导体结构、量测方法、设备以及存储介质。其中量测标记，设置于半导体结构，半导体结构包括衬底，量测标记应用于刻蚀后的检查过程，量测标记包括层叠的第一标记层和第二标记层，第一标记层在衬底上的投影轮廓与第二标记层在衬底上...
    2026-04-29
  • 合成产生新能源的装置
    合成产生新能源的装置_董国奇_202610275328.7
    本发明是一种合成产生新能源的装置，该装置中有一个由滚轮组G、H、K，和一个弹性齿轮C组成的三角形弹性齿圈组合体，通过组合体右侧呈现内凹圆弧的一段齿圈，能够将其上方组合体D的重力W，传递到处于b点的弹性齿圈外齿，产生对新动力齿轮轮齿的作用力F...
    2026-04-29
  • 一种折反射式光刻投影系统及曝光装置
    一种折反射式光刻投影系统及曝光装置_苏州全芯光科技有限公司_202610292512.2
    本申请提供了一种折反射式光刻投影系统及曝光装置，通过非同心反射镜组件与对称式透镜组的配合，本系统能够在大数值孔径条件下实现三阶像散、彗差、球差及色差的综合校正，使波像差保持在衍射极限以内，从而在实现大曝光视野的同时维持高分辨率成像能力。
    2026-04-29
  • 曝光装置
    曝光装置_成都瑞波科材料科技有限公司_202211619210.X
    本申请公开了一种曝光装置，涉及光学曝光装备领域。一种曝光装置，包括：光源，光源用于产生非偏振光；偏振分束器，偏振分束器具有倾斜面，倾斜面设有偏振分束介质膜，偏振分束器用于将沿第一方向入射至偏振分束介质膜的非偏振光分成偏振方向相互垂直的第一线...
    2026-04-29
  • 一种阵列式多层堆场重力储能系统及其设计方法
    一种阵列式多层堆场重力储能系统及其设计方法_鹰川智驱(宁波)科技有限公司_202610241736.0
    本发明提供了一种阵列式多层堆场重力储能系统及其设计方法。重力储能系统包括：至少两个驱动立柱或至少一个驱动立柱、至少一个支撑立柱，驱动立柱上沿其行程方向设置有至少两条通道，每条所述通道上安装有动力驱动装置；立柱之间的顶部及其它部位通过顶部及其...
    2026-04-29
  • 一种多重曝光技术的刻蚀偏差获取方法
    一种多重曝光技术的刻蚀偏差获取方法_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202310842962.0
    本申请提供一种多重曝光技术的刻蚀偏差获取方法，所述方法包括：提供第一光罩和第二光罩，所述第一光罩包括第一图形和第二图形，所述第二光罩包括第三图形，所述第二图形和第三图形叠加构成第四图形；获取所述第一图形和第四图形的模拟显影后的线端间距；执行...
    2026-04-29
  • 增益可调的低噪声放大器及射频芯片
    增益可调的低噪声放大器及射频芯片_深圳飞骧科技股份有限公司_202610383902.0
    本发明涉及无线通讯技术领域，提供了一种增益可调的低噪声放大器及射频芯片，其包括高增益放大模块、低增益放大模块、模式选择开关模块、共栅放大模块、偏置产生电路以及输出匹配模块；高增益放大模块用于实现低噪声和高增益的放大；低增益放大模块用于实现低...
    2026-04-29
  • 图像采集装置
    图像采集装置_北京小龙潜行科技有限公司_202310607893.5
    本申请涉及成像技术领域，更具体地，涉及一种光通组件、光通组件的设置方法以及图像采集装置。本申请通过设计隔断层以及光通孔在滤光片表面作隔断，光线经一个光通孔进出一个相配的摄像头，降低了滤光片表面的各种光线对深度相机的各个摄像头之间的干扰，提高...
    2026-04-29
  • 功率放大器协同线性化方法及系统
    功率放大器协同线性化方法及系统_西安安泰电子科技有限公司_202610162992.0
    本申请适用于放大器技术领域，提供了一种功率放大器协同线性化方法及系统，该方法包括：获取功率放大器的误差信号，将其分离为慢变和快变误差分量；基于快变分量执行预测性前馈控制，以抑制功率放大器的短时电记忆效应；基于慢变分量执行解耦补偿控制，以补偿...
    2026-04-29
  • 高共模电压高精度差分放大器
    高共模电压高精度差分放大器_中国电子科技集团公司第二十四研究所_202610024282.1
    本发明公开了一种高共模电压高精度差分放大器，包括运算放大器A，第一电阻R1、第二电阻R2、第三电阻R3、第四电阻R4、衰减单元以及调节单元；所述运算放大器A的反相输入端通过第一电阻R1与差分放大器的输入负端电连接，所述运算放大器A的反相输入...
    2026-04-29
  • 一种复印机转印带的清洗装置
    一种复印机转印带的清洗装置_本刻智能(中山)科技有限公司_202521309869.4
    本实用新型涉及复印机转印带技术领域，尤其为一种复印机转印带的清洗装置，包括转印带的底端设有收集斗，收集斗的底端固定连接有收集管，收集管的内侧固定连接有吸尘扇，收集管的底端固定连接有中转仓，内侧固定连接有呈对称设置的四个支撑杆，四个支撑杆之间...
    2026-04-29
  • 拍摄元件、焦点检测装置和拍摄装置
    拍摄元件、焦点检测装置和拍摄装置_株式会社尼康_202480061862.7
    拍摄元件具备：第1像素和第2像素，其分别具有接受通过光学系统的出射光瞳的不同的光瞳区域的光束的一对光电转换部，输出用于所述光学系统的焦点检测的信号；以及控制部，其进行第1控制和第2控制，在所述第1控制中，使所述第1像素和所述第2像素中的选择...
    2026-04-29
  • 一种具有堵塞报警和自动疏通功能的建筑排水装置
    一种具有堵塞报警和自动疏通功能的建筑排水装置_深圳市兴海机电工程有限公司_202520636046.6
    本实用新型公开了一种具有堵塞报警和自动疏通功能的建筑排水装置，包括接污水立管、接通气立管和三通管，所述接污水立管的末端连接有接污水横干管，所述接污水立管的一侧连接有虹吸管道，所述三通管装设在所述虹吸管道上，所述三通管的一端与所述接通气立管连...
    2026-04-29
  • 一种公交站显示屏的投屏装置
    一种公交站显示屏的投屏装置_道睿(山东)科技有限公司_202521086449.4
    本实用新型公开的一种公交站显示屏的投屏装置，包括信息箱，所述信息箱的前侧设有对称分布的透明板，还包括投屏组件和能源转化组件。本实用新型属于投屏设备技术领域，具体是一种解决了公交站台的显示屏因户外环境下阳光照射，会导致投屏信息的可视度受光照影...
    2026-04-29
  • 一种基于双LBS投影的全景抬头显示装置
    一种基于双LBS投影的全景抬头显示装置_沂普光电(福建)有限公司_202610275790.7
    本发明公开了一种基于双LBS投影的全景抬头显示装置，涉及抬头显示技术领域，包括双LBS投影单元、投影光学系统、玻璃投射面和图像处理与控制单元，双LBS投影单元用于发射两束三色激光并对三色激光进行二维偏转和调制，玻璃投射面包括玻璃基板和位于玻...
    2026-04-29
  • 图案形成用层叠膜和未感光的丝网印刷版以及它们的制造方法
    图案形成用层叠膜和未感光的丝网印刷版以及它们的制造方法_株式会社村上_202180004813.6
    [课题]本发明提供一种图案形成用层叠膜，其防止空气中的水分吸收、不必要的成分残留于版膜表面、以及感光性树脂层的粘性。[解决手段]本发明提供一种图案形成用层叠膜、采用该图案形成用层叠膜的未感光的丝网印刷版、以及它们的制造方法，所述图案形成用层...
    2026-04-29
  • 衬底处理设备及衬底处理方法
    衬底处理设备及衬底处理方法_细美事有限公司_202511530382.3
    提供一种衬底处理设备，所述设备包括：液体处理腔室，其用于处理衬底；液体供应单元，其用于将液体供应至所述衬底。所述液体供应单元包括：储存组件，在所述储存组件中储存液体；液体供应管，其用于将所述储存组件中的所述液体供应至所述液体处理腔室中；以及...
    2026-04-29
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