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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种可拉伸的柔性热电发生器的制备方法,制备金属掩模板abc和可拉伸的聚酰亚胺衬底;使用磁控溅射法,Ar气氛下,将钨与Bi0.5Sb1.5Te3同时沉积在金属掩模板a覆盖的聚酰亚胺衬底上,钨靶连接射频电源,功率为10W,Bi0.5...
  • 本发明属于硬质涂层领域,尤其是一种冰刀TiN复合涂层及其制备方法,冰刀TiN复合涂层包括从内至外依次设置的钛打底层、导热调控层和冰屑排斥层;所述导热调控层为掺杂稀土元素的柱状晶TiN结构,且导热调控层具有以下特性:当‑25℃≤界面温度<0℃...
  • 本发明涉及一种常压生长的MOCVD反应器及薄膜生长方法,属于半导体材料制备技术领域,解决了现有技术中水平进气的MOCVD反应器成型的薄膜前厚后薄、均匀性差、局部累积的问题。本发明包括反应室、进气组件和反应组件;反应组件设置于反应室的中心,进...
  • 本发明提供了一种低应力生长剥离多晶金刚石的方法,该方法原理是利用衬底和过渡层与多晶金刚石低失配的特性,同时利用氢气强刻蚀能力使多晶金刚石在生长后利用氢气刻蚀衬底,来避免额外应力介入,从而降低多晶破裂。该方案与现有技术相比能够有效减少多晶金刚...
  • 本实用新型涉及石墨烯制备技术领域,公开了一种石墨烯制备载具,包括固定件,固定件沿气体输送方向相对设置有两个敞口,固定件内部设置适于放置衬底的多个安装位,多个安装位的排布方向垂直于气体输送方向设置;载体件,载体件具有适于将固定件沿竖直方向放置...
  • 本发明提供了一种晶圆薄膜沉积机台及晶圆薄膜沉积系统,其中,所述晶圆薄膜沉积机台包括:反应腔,侧壁开设有第一传送口,第一传送口将反应腔的内部与外部导通;所述晶圆通过第一传送口进出所述反应腔;基座,设于所述反应腔内,用于承载晶圆;可移动的遮挡件...
  • 本发明属于薄膜传感器领域,公开了一种用于氢气检测的铝酸镧/钛酸锶纳米结构的制备方法,包括:先准备钛酸锶单晶衬底,在钛酸锶单晶衬底上脉冲激光沉积单晶外延铝酸镧薄膜,得到单晶外延铝酸镧/钛酸锶材料,再利用飞秒激光诱导单晶外延铝酸镧薄膜的表面形成...
  • 本实用新型适用于光学玻璃镀膜技术领域,提供了一种镀膜用旋转放置架,包括:底座;转动安装在所述底座上的支撑柱;固定安装在所述支撑柱顶端的旋座;安装在所述旋座上的多个定位板;转动安装在多个所述定位板相互靠近一侧的多个横轴;分别固定套设在多个所述...
  • 本实用新型公开了一种偏心曲轴渗碳处理装炉装置,包含板状的下支撑盘和板状的上定位板,下支撑盘与上定位板的四角之间设有立柱,下支撑盘上设有若干突出的顶尖和若干下镂空放置孔,上定位板上设有若干上镂空放置孔,下镂空放置孔与上镂空放置孔之间设有偏心曲...
  • 一种防止蒸发源污染的火山口装置,包括:坩埚组件包括旋转台,以及设置在旋转台上方的多个坩埚,坩埚内放置有金属源,旋转台驱动坩埚绕其中心轴线转动;火山口组件包括旋转盘以及驱动旋转盘转动的旋转轴,旋转盘包括多个与坩埚对应设置的火山口;在坩埚旋转的...
  • 本发明涉及冷喷涂技术领域,公开了一种冷喷涂系统及控制方法,包括气瓶、气流调节装置、喷枪、送粉装置、加热装置和水冷装置和控制器,所述气瓶的内部设置有气泵和气源,所述气泵的内部固定安装有开关阀一和开关阀二,所述气流调节装置包括主气路和送粉气路,...
  • 本实用新型公开了一种蒸发源装置及蒸镀设备,涉及镀膜设备领域。该蒸发源装置包括:坩埚组件,具有开口朝上的蒸发腔,坩埚组件用于加热蒸发盛放于蒸发腔内的物料;升降机构,与坩埚组件连接,用于带动坩埚组件在竖直方向上运动至多个不同的高度位置;促流机构...
  • 本实用新型涉及滚子黑化技术领域,具体涉及一种批量滚子黑化工装,旨在解决现有技术中滚子黑化处理时滚道面易出现断层的问题。该工装包括多个连接薄板和支撑薄板,连接薄板上开设若干间隔设置的凹槽,支撑薄板通过底边卡装在凹槽中形成多排支撑结构。支撑薄板...
  • 本发明公开了一种水冷导电环结构及磁控溅射薄膜沉积设备,水冷导电环结构包括:矩形框架,矩形框架包括四个拼接条和四个拼接部,相邻的两个拼接条之间通过拼接部连接固定,拼接条的内部沿自身长度方向设置冷却水道,拼接部的内部设置过渡水道,过渡水道连通相...
  • 本发明涉及金属材料表面改性技术领域,具体涉及一种激光熔覆金属硅化物陶瓷涂层及其制备方法与应用。本发明采用“过渡层+功能层”双梯度高熵合金涂层设计,通过激光熔覆技术在钢基体表面依次制备低Si含量和高Si含量的Fe‑Cr‑Ni‑Co‑Si高熵合...
  • 本实用新型公开了一种齿轮轴渗碳装炉工装,涉及渗碳工装技术领域。其结构包括安装底架、安装上盖、吊环螺栓以及安装在安装底架与安装上盖之间安装有同轴多个环圈均布安装的齿轮轴夹持组件;齿轮轴夹持组件包括两个导向圆柱杆、第一尖锥、重力定位器;安装底架...
  • 公开了沉积材料的方法和用于沉积材料的系统。示例性方法包括在改变反应室内的压力的同时向衬底投配前体和/或反应物。
  • 本实用新型公开了一种脉冲电源集成辉光离子氮化炉,涉及金属材料表面处理技术领域,包括炉体结构,炉体结构包括氮化炉,氮化炉的两侧连通有氮气口,氮化炉的炉体上开设有传感器接口,氮化炉的底端集成有集成电源模块,集成电源模块的底端支撑有支座,氮化炉的...
  • 本实用新型涉及一种激光熔覆机床专用的全液压尾座,全液压尾座设置在激光熔覆机床的床身上,全液压尾座包括尾座本体,尾座本体包括底座和顶座,顶座设置在底座的顶部,顶座的左端设置有顶尖,顶尖的左端位于顶尖套筒的左端外侧,顶座的右端侧壁设置有顶尖油缸...
  • 本发明公开了一种高稳定性碱性化学镀镍磷铜三元合金镀液及施镀方法,属于金属表面处理技术领域。该方法通过复配柠檬酸钠、焦磷酸钠和乳酸钠作为络合剂,结合尿素和硫脲或硝酸铅作为稳定剂,有效抑制了Cu2+的优先置换反应,实现了Ni‑P‑Cu三元合金的...
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