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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种基于RAFM钢/氮化钛的多级涂层氧介导退火制备方法,属于涂层制备技术领域。本发明方法包括:采用磁控溅射在低活化铁素体/马氏体钢基体表面沉积TiN涂层,使用纯钛靶材,氮氩流量比1 : 13‑1 : 18,本底真空度4‑6×10...
  • 本申请公开了一种推进式PVD反应腔体辅助固定结构,涉及半导体加工技术领域,本申请通过调节底部减震结构的调节结构,使承重底板处于水平状态,后通过定位销与反应腔体侧壁的定位孔间隙配合,滚珠轴承套的内圈与反应腔体的侧壁导向面滑动贴合,调节旋钮与定...
  • 本公开涉及半导体制造领域,提供一种沉积供气系统和沉积设备,用以稳定通入腔室内部的气体流量、进而保证腔室压力的稳定性。沉积供气系统包括:反应腔室以及反应腔室对应的抽气管路;第一混气管道,具有第一输出口和第二输出口,第一输出口连接反应腔室;第二...
  • 本发明属于薄膜领域,具体公开一种原子层沉积方法及其制得的薄膜。本发明的沉积方法中,利用原子层沉积系统当中反应腔体、两个输入管路系统、出口阀门以及真空泵,控制原子沉积过程前驱体脉冲沉积以及惰性气体吹扫条件,改善薄膜沉积的状态,提高吹扫去除前驱...
  • 本实用提出了一种铬版版材磁控溅射镀膜设备,包括真空箱体;旋转放置机架,所述旋转放置机架固接在真空箱体的内部顶端上;镀膜移动机构,所述镀膜移动机构固接在旋转放置机架的下端上。本实用升降磁控溅射镀膜机体通过镀膜移动机构可以改变位置进行镀膜,碎屑...
  • 本发明涉及半导体制造设备技术领域,公开了一种适用于SiC衬底的PECVD冷却腔结构,解决了现有基于Si衬底设计的冷却腔无法适配SiC衬底特性,导致温度均匀性差、热应力集中、热传导效率低的问题。该结构包括冷却塔、边缘冷却管、中央冷却管、测温件...
  • 本发明为一种应用在可视双腔支气管插管上的涂层装置及方法,属于可视双腔支气管插管上的涂层技术领域,包括等离子体清洗机构和真空镀膜机构,所述等离子体清洗机构包括真空处理箱,所述真空处理箱的内侧放置着可视双腔支气管插管,所述真空处理箱的内底壁转动...
  • 本发明公开了一种自支撑多晶金刚石膜的制备方法,包括以下步骤:a.以经过超声清洁和等离子清洁后的钼台为衬底,通过MPCVD技术在衬底表面沉积一层厚度约0.1‑2μm的无定形碳薄层;b.接着调整气体比例,原位进行多晶金刚石的沉积;c.沉积完成后...
  • 本发明涉及溅射镀膜技术领域,提出了一种铜镍电阻抗氧化层溅射镀膜压力稳定方法及系统,包括:在抗氧化层溅射镀膜过程中采集真空度和温度;预设的真空度标准范围,确定采集时刻的真空度特征值、异常变化趋势差异、调整必要性,根据调整必要性确定调整采集时刻...
  • 本发明属于涂层领域,具体涉及一种硬质耐磨TaN/MoS2复合涂层及其制备方法。本发明以Ta靶和MoS2靶作为靶材,N2为反应气体,氩气为溅射气体,通过直流磁控溅射靶材,在基底上获得TaN/MoS2复合涂层;采用40sccm的总流量,固定氮气...
  • 本实用新型公开了一种防飞溅蒸发舟组件,包括蒸发舟、绝缘导热坩埚、绝缘隔热盖,所述绝缘导热坩埚放置在蒸发舟上,绝缘隔热盖扣在绝缘导热坩埚上方,所述绝缘导热坩埚两侧壁顶部开设有坩埚环形槽,坩埚环形槽两侧的内壁台阶和外壁台阶存在高度差,所述内壁台...
  • 本文公开了一种处理系统。该处理系统具有上腔室主体和下腔室主体,上腔室主体和下腔室主体限定处理环境。上加热器可移动地设置在上腔室主体内。上加热器具有可移动支撑件和沿外周边形成的上阶部。下喷头固定地设置于下腔室主体内。下喷头包括顶表面,该顶表面...
  • 本申请实施例公开了一种微波等离子化学气相沉积系统,该微波等离子化学气相沉积系统包括沉积腔体、第一气体供应管路和第一旁支腔体。其中,沉积腔体内具有样品台;第一旁支腔体的一端与沉积腔体连通,第一旁支腔体的另一端与第一气体供应管路连通,第一旁支腔...
  • 本发明提供一种TiAlN/MAX相多层复合涂层及其制备方法和应用,涉及功能涂层材料技术领域。该涂层采用TiAlN层与MAX相层的纳米交替多层结构,解决了传统涂层硬度与韧性难以兼顾的瓶颈,显著提升涂层的综合力学性能与抗失效能力;高温工况下,M...
  • 本发明属于热障涂层技术领域,具体涉及一种含有垂直裂纹的耐CMAS腐蚀的热障涂层及其制备方法。所述应变缓冲中间层由含有原位生成稀土铝酸盐片晶的氧化钇稳定氧化锆构成;所述功能复合顶层由表面包覆有非晶氧化硅层的氧化铝颗粒与铌钐共掺杂氧化钇稳定氧化...
  • 本发明属于复合涂层技术领域,具体提供了一种兼耐腐蚀和自润滑性能的复合涂层及制备方法、机械部件。通过由金属结合层、合金韧化层和金属化合物强化层构成的周期性纳米叠层结构,并将其作为中间支撑体与表层DLC结合,有效解决传统DLC涂层在腐蚀、冲击和...
  • 本发明公开了一种半导体用垫块复合层、制备方法及垫块,从靠近铍铜的基体到远离基体依次包括复合镀层及表面微织构,复合镀层从靠近基体到远离基体依次包括铬过渡层、α‑类金刚石碳层以及掺二硫化钨的自润滑层,α‑类金刚石碳层内均匀分布有硬质金属碳化物增...
  • 本发明提供一种钢管全自动镀锌方法,涉及钢管表明处理技术领域,其技术要点在于:包含以下步骤:全自动机械臂上料,辊道输送至检测工位,“机器视觉+激光测长”筛选外观及尺寸合格钢管;将合格钢管依次进行脱脂处理、酸洗活化、中和钝化及低温应力消除;预处...
  • 本发明涉及工程机械领域,公开了一种起重设备,其中,起重设备包括转台(10)、桅杆(20)、超起装置(30)和支撑机构(40),超起装置包括与转台铰接的超起桅杆(31),桅杆通过第一承拉件(21)与超起桅杆连接,支撑机构的一端与超起桅杆的末端...
  • 本发明公开了一种不锈钢管接头密封结构的制造方法,通过该方法制造的不锈钢管接头密封结构具体由三个部分组成,分别是右端设置内螺纹左端设置法兰箍的箍紧扣、中部外圆设置有与箍紧扣内螺纹相匹配外螺纹结构且左端为第一密封端的运动接头、右端第二密封端与运...
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