京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司王旭获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板以及显示装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224218779U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202521101658.1,技术领域涉及:H10K59/86;该实用新型显示基板以及显示装置是由王旭;李伟;贺伟;唐霞;杨旭;崔伟;邓雷;杨维骑;龙范林设计研发完成,并于2025-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板以及显示装置在说明书摘要公布了:一种显示基板以及显示装置。显示基板包括衬底基板以及位于衬底基板上的隔离层。衬底基板包括显示区,隔离层位于显示区的部分包括沿第一方向和第二方向阵列排布的多个隔离图案,每个隔离图案包括多个隔离子图案;沿第一方向排列的相邻隔离图案之间至少具有沿第二方向排列的第一间隔和第二间隔,第一间隔的至少部分的宽度与第二间隔的至少部分的宽度之间的比例为0.9~1.1。通过对不同间隔的宽度尺寸进行设置,有利于避免出现阳极残留。
本实用新型显示基板以及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示基板,其特征在于,包括: 衬底基板,包括显示区; 隔离层,位于所述衬底基板上, 其中,所述隔离层位于所述显示区的部分包括沿第一方向和第二方向阵列排布的多个隔离图案,每个隔离图案包括多个隔离子图案,所述第一方向与所述第二方向相交; 沿所述第一方向排列的相邻隔离图案之间至少具有沿所述第二方向排列的第一间隔和第二间隔,所述相邻隔离图案中的一个至少包括沿所述第二方向排列的第一隔离子图案和第二隔离子图案,所述第一隔离子图案与所述相邻隔离图案中的另一个隔离图案之间的间隔为所述第一间隔,所述第二隔离子图案与所述相邻隔离图案中的另一个隔离图案之间的间隔为所述第二间隔,所述第一间隔的至少部分的宽度与所述第二间隔的至少部分的宽度之间的比例为0.9~1.1。
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