东京毅力科创株式会社松永浩一获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113176709B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110054109.3，技术领域涉及：G03F7/16；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由松永浩一设计研发完成，并于2021-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够进行基板面内的氟树脂膜的形成范围的调节。基板处理装置具备：疏水化处理部，其构成为进行疏水化处理，在该疏水化处理中通过疏水化处理用的疏水化气体的蒸镀来在基板的表面形成疏水化膜；紫外线照射部，其构成为通过向基板的背面中的去除区域照射紫外线，来去除在疏水化处理中形成于去除区域的疏水化膜；以及树脂膜形成部，其构成为在去除了疏水化膜后的去除区域形成氟树脂膜。
本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，具备： 疏水化处理部，其构成为进行疏水化处理，在该疏水化处理中通过疏水化处理用的疏水化气体的蒸镀来在基板的表面形成疏水化膜，其中，所述基板的背面包括非去除区域和位于该非去除区域内侧的去除区域，在所述非去除区域的整个区域以及所述去除区域的周缘部也形成疏水化膜； 紫外线照射部，其构成为通过向所述去除区域照射紫外线，来去除在所述疏水化处理中形成于所述去除区域的所述疏水化膜；以及 摩擦减少膜形成部，其构成为在去除了所述疏水化膜后的所述去除区域形成减少与所述基板的保持部之间的摩擦的摩擦减少膜， 所述摩擦减少膜形成部不在所述非去除区域形成所述摩擦减少膜， 所述紫外线照射部不向所述非去除区域照射紫外线，从而不去除形成于所述非去除区域的所述疏水化膜， 所述紫外线照射部具有： 紫外线照明部，其能够向包括所述去除区域的区域照射所述紫外线；以及 遮光构件，其配置于所述紫外线照明部与所述背面之间，来遮蔽所述紫外线对所述背面中的所述去除区域以外的区域的照射。
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