朗姆研究公司杨文兵获国家专利权
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龙图腾网获悉朗姆研究公司申请的专利高能量原子层蚀刻获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111448641B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880078758.3，技术领域涉及：H10P50/28；该发明授权高能量原子层蚀刻是由杨文兵;萨曼莎·坦;塔玛尔·穆克吉;克伦·雅各布斯·卡纳里克;潘阳设计研发完成，并于2018-10-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本高能量原子层蚀刻在说明书摘要公布了：本发明提供了用于执行高能原子层蚀刻的方法和设备。方法包括提供具有待蚀刻材料的衬底，将所述材料的表面暴露于改性气体以使所述表面改性并形成经改性的表面；以及将所述经改性的表面暴露于高能粒子，以相对于下伏的未经改性的表面优先去除所述经改性的表面，所述高能粒子具有足以克服所述下伏的未经改性的表面的平均表面束缚能的离子能量。所用的高能粒子的能量很高；在一些情况下，当将改性表面暴露于高能粒子时施加到偏置的功率至少为150eV。
本发明授权高能量原子层蚀刻在权利要求书中公布了：1.一种衬底处理方法，所述方法包括： 提供包含待蚀刻的材料的衬底； 将所述待蚀刻的材料的表面暴露于改性气体，以使所述表面改性并形成经改性的表面；以及 将所述经改性的表面暴露于高能粒子并且施加偏置，以相对于下伏的未经改性的表面优先去除所述经改性的表面， 所述高能粒子具有足以克服所述下伏的未经改性的表面的平均表面束缚能的离子能量， 其特征在于，施加至偏置的电能至少为150eV， 其中所述高能粒子去除一定量的所述经改性的表面，所去除的所述经改性的表面的所述量由下式所表示： 其中Y为所述高能粒子的离子产率、F为所述高能粒子的通量、t为所述高能粒子的暴露持续时间、而d为所述待蚀刻的材料的表面密度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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