江苏京创先进电子科技有限公司粟里获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏京创先进电子科技有限公司申请的专利半导体清洗机及半导体器件加工设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224165079U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521129268.5，技术领域涉及：H10P72/00；该实用新型半导体清洗机及半导体器件加工设备是由粟里;王永强;邢珂;赵锋;高金龙设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体清洗机及半导体器件加工设备在说明书摘要公布了：本实用新型揭示了一种半导体清洗机及半导体器件加工设备，包括集液槽，集液槽中的座体处设置有由旋转驱动机构驱动自转的真空吸附组件，集液槽的正上方设置有位置固定的上盖，上盖上设置有清洗机构，清洗机构的清洗组件位于上盖的下方且与真空吸附组件保持预定间隙，集液槽中还设置有围设在座体外周的侧围挡，侧围挡连接驱动其升降的升降器，升降器驱动侧围挡在第一高度和第二高度之间切换，在第一高度时，侧围挡位于清洗组件的下方，在第二高度时，所述侧围挡与上盖及集液槽围合成闭合的清洗空间。本实用新型通过设置位置固定的上盖，并通过设置可升降的侧围挡与上盖和集液槽围合成闭合的清洗空间，从而避免清洗时，脏污飞溅影响设备内部环境。
本实用新型半导体清洗机及半导体器件加工设备在权利要求书中公布了：1.半导体清洗机，包括集液槽，所述集液槽中的座体处设置有由旋转驱动机构驱动自转的真空吸附组件，其特征在于：所述集液槽的正上方设置有位置固定的上盖，所述集液槽中还设置有围设在所述座体外周的侧围挡，所述侧围挡连接驱动其升降的升降器，所述升降器驱动所述侧围挡在第一高度和第二高度之间切换，在第一高度时，所述侧围挡位于清洗组件的下方，在第二高度时，所述侧围挡与上盖及集液槽围合成闭合的清洗空间；所述上盖上设置有清洗机构，所述清洗机构的清洗组件位于所述上盖的下方且与真空吸附组件保持预定间隙，清洗时，所述清洗组件在所述清洗空间内转动。
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