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龙图腾网获悉上海诺睿科半导体设备有限公司申请的专利一种用于光学量测的多参数约束色散模型的构建方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121562313B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610077105.X，技术领域涉及：G06F30/23；该发明授权一种用于光学量测的多参数约束色散模型的构建方法是由徐策;刘天祺;李吉梦;袁琼雁;赵礼;叶俊杰设计研发完成，并于2026-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于光学量测的多参数约束色散模型的构建方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于光学量测的多参数约束色散模型的构建方法，包括：建立物理光学模型；提取影响物理参数的外部工艺参数，建立外部工艺参数和物理参数的映射关系，并基于所述映射关系优化物理光学模型；在全工艺窗口内对外部工艺参数和结构参数进行采样，并利用物理光学模型批量生成对应的理论光学响应信号；将采样的外部工艺参数和理论光学响应信号作为机器学习算法的输入，物理参数与多个外部工艺参数的映射关系作为输出，预训练多参数约束色散模型；将采样的外部工艺参数和实际采集的光学信号作为输入进一步优化多参数约束色散模型。多参数约束色散模型具备良好数值稳定性、高鲁棒性、兼容外部工艺参数。

本发明授权一种用于光学量测的多参数约束色散模型的构建方法在权利要求书中公布了：1.一种用于光学量测的多参数约束色散模型的构建方法，其特征在于，包括如下步骤： 根据量测对象的物理结构初步建立待测的关键参数与光谱信号之间的物理光学模型，所述物理光学模型的参数还包含了物理参数；根据量测对象的物理结构和待测的关键参数确定物理模型的类型，通过光学色散模型的经验公式构建待测的关键参数与光谱信号之间的物理光学模型，其中物理光学模型的映射关系公式如下： ， ：光谱信号，量测光谱的波长范围从深紫外到中红外波段；：薄膜厚度；：结构尺寸；：材料复数折射率；：物理光学模型推导的函数映射关系； 提取影响物理参数的外部工艺参数，建立外部工艺参数和物理参数的映射关系，并基于所述映射关系优化物理光学模型； 在全工艺窗口内对外部工艺参数和结构参数进行采样，并利用物理光学模型批量生成对应的理论光学响应信号； 将采样的外部工艺参数和理论光学响应信号作为机器学习算法的输入，物理参数与多个外部工艺参数的映射关系作为输出，预训练多参数约束色散模型； 将采样的外部工艺参数和实际采集的光学信号作为输入，物理参数与多个外部工艺参数的映射关系作为输出，进一步优化多参数约束色散模型； 所述机器学习算法为物理信息引导的神经网络算法； 预训练多参数约束色散模型时，使用采样的外部工艺参数和理论光学响应信号作为输入，数据损失函数为： ， N:代表训练时的样本数量，为理论光学响应信号，为模型重构的光学信号； 优化多参数约束色散模型时，使用复合损失函数： ， 其中，物理一致性损失函数： ， 为实际采集的光学信号，表示在第i次迭代中，将当前模型重构的光学信号通过LM算法计算更新结构参数，将结构参数代入正向传输矩阵模型或严格耦合波分析计算得到新的重构光学信号； 表示正则化损失，λ1、λ2是复合损失函数中的平衡超参数。

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