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龙图腾网获悉深圳市瀚思通汽车电子有限公司申请的专利基于DMD动态掩模的光波导母版免拼接制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121559820B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610078900.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权基于DMD动态掩模的光波导母版免拼接制备方法是由梁彩虹;肖相锋设计研发完成，并于2026-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于DMD动态掩模的光波导母版免拼接制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光波导制备技术领域，公开了基于DMD动态掩模的光波导母版免拼接制备方法，获取光波导母版的布局数据作为初始设计信息，生成掩模图形序列，包含多个分区掩模图案；建立微镜单元开关状态与分区掩模图案的像素映射关系；驱动透明基底在平台执行分区定位移动，控制感光材料层的当前曝光区域与分区掩模图案的投射区域对准；基于像素映射关系以及分区定位移动结果，激活掩模图案，进行无间隔连续曝光，形成整版潜影图案；对整版潜影图案进行显影处理，对光波导母版浮雕结构处理，转移至透明基底的内部，形成波导芯层图案，实现无间隔连续曝光、无需分段拼接的效果，缩短表面浮雕光波导母版的制备周期，提升加工效率与批量制备良率。

本发明授权基于DMD动态掩模的光波导母版免拼接制备方法在权利要求书中公布了：1.基于DMD动态掩模的光波导母版免拼接制备方法，其特征在于，包括： 获取光波导母版的布局数据作为初始设计信息，并对所述初始设计信息进行网格化分割处理，生成掩模图形序列，其中，所述掩模图形序列包含按曝光时序排列的多个分区掩模图案； 在数字微镜器件的微镜阵列表面加载所述掩模图形序列，并建立微镜单元开关状态与所述分区掩模图案的像素映射关系； 在透明基底表面涂覆感光材料层，驱动所述透明基底在平台执行分区定位移动，控制所述感光材料层的当前曝光区域与所述分区掩模图案的投射区域对准； 基于所述像素映射关系以及分区定位移动结果，依次激活所述掩模图形序列中的各个分区掩模图案，在所述感光材料层表面进行无间隔连续曝光，形成整版潜影图案； 对所述整版潜影图案进行显影处理，去除所述感光材料层的非固化区域，得到光波导母版浮雕结构，并对所述光波导母版浮雕结构进行刻蚀工艺处理，将处理后的光波导母版浮雕结构转移至所述透明基底的内部，形成波导芯层图案； 在驱动所述透明基底在平台执行分区定位移动时，包括： 通过光学对准传感器捕获所述感光材料层表面的实际基准标记图像； 提取所述实际基准标记图像的中心坐标，计算所述中心坐标与理论坐标之间的对准偏差量； 根据所述对准偏差量，生成平台补偿移动指令，其中，所述平台补偿移动指令包含X轴补偿值、Y轴补偿值及旋转角度补偿值； 驱动平台执行所述平台补偿移动指令； 在完成当前分区曝光后，根据下一个分区掩模图案对应的网格边界坐标，生成平台步进移动指令，使所述感光材料层的下一曝光区域进入投射视场范围； 在根据所述对准偏差量，生成平台补偿移动指令时，包括： 将所述对准偏差量分解为平移分量与旋转分量，其中，所述平移分量包含X轴偏差值与Y轴偏差值，所述旋转分量包含角度偏差值； 获取平台在当前工艺周期内的历史补偿记录，构建偏差波动统计矩阵，所述偏差波动统计矩阵记录各分区曝光对准偏差的分布离散程度； 基于所述对准偏差量的平移分量与旋转分量之间的比例关系，结合所述偏差波动统计矩阵的离散特征，确定环境干扰因子； 根据当前曝光区域与相邻已曝光区域的网格边界重叠率，确定补偿权重系数，所述补偿权重系数与所述网格边界重叠率呈负相关且取值区间为0至1； 将所述环境干扰因子与所述补偿权重系数的乘积值，作为综合补偿修正系数； 基于所述综合补偿修正系数分别对所述平移分量与所述旋转分量进行修正，生成平台补偿移动指令； 在根据下一个分区掩模图案对应的网格边界坐标，生成平台步进移动指令时，包括： 获取所有未完成曝光的分区掩模图案对应的网格边界坐标集合，构建待曝光区域的拓扑连接图，所述拓扑连接图记录各网格单元之间的相邻连接关系，形成连接网络； 基于基准标记坐标在所述待曝光区域中的分布密集程度，计算基准标记覆盖率； 遍历所述拓扑连接图中的各个网格单元，将计算得到的基准标记覆盖率与预设覆盖阈值进行比较，保留覆盖率大于预设覆盖阈值的网格单元，构成可曝光区域集合； 在所述可曝光区域集合内部，计算从一个网格单元移动到另一个网格单元的距离，将所有相邻网格单元之间的距离累加，得到总移动距离，作为路径总长参数； 将所述路径总长参数与所述基准标记覆盖率按照预设权重进行综合评估，构建路径优选指数； 比较所述可曝光区域集合内所有网格单元对应的路径优选指数，选择指数最小的网格单元，提取网格边界坐标，生成平台步进移动指令。

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